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HWN-P1500納米激光直寫系統是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方...
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HWN-L2新型納米激光直寫系統是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L10...
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HWN-L1新型納米激光直寫系統是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L10...
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HWN-P1500-1500新型納米激光直寫系統是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結...
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公司簡介:蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業園區創業人才項目"的支持下，于2011年注冊成立的高科技創新型公司，公司由歸國和國內的高層次人才組成，公司設有博士后流動站。公司曾先后獲得國家科技部（國家重大大科學儀器設備開發專項)和姑蘇、江蘇省雙創人才、以及蘇州x-nano大科學裝置等項目支持，并于2012年6月完成首輪風險融資，并成功研發出擁有自主知識產權的三大系列新型納米激光光刻系統，2015年被認定為高新技術企業。公司近年來，不斷加大研發力度，已經定型了LDW-P和LDW-L兩大系列新型激光直寫設備，實現了激光直寫設備的更新換代。該新型激光直寫采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
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無掩模納米光刻機（MasklessLithography,MLL）作為一種先進的微納加工技術，廣泛應用于半導體制造、微電子器件、光學元件的精密加工中。與傳統的掩模光刻技術不同，無掩模納米光刻機省去了光刻掩模的使用，采用了電子束或激光束直接照射光敏材料，實現高分辨率和高精度的圖案轉移。為了確保其最佳性能，正確的使用方法和注意事項至關重要。使用方法1.準備工作-清潔工作環境：無掩模納米光刻機對環境要求較高，必須保持無塵和溫濕度控制的工作環境。在操作之前，確保工作臺面、設備表面和相...
查看詳細在當今快速發展的科技領域，納米技術作為推動各行業創新的核心力量之一，其重要性不言而喻。而在眾多納米制造技術中，無掩模納米光刻機以其優勢成為研究與工業應用中的明星設備。它不僅打破了傳統光刻技術對掩模板的依賴，還大幅提升了制造靈活性與效率，為納米尺度下的精密加工提供了全新解決方案。設備概述無掩模納米光刻機是一種利用數字微鏡器件（DMD）或其他類似技術直接生成圖案并將其轉移到基板上的先進設備。不同于傳統的光刻工藝需要預先制作昂貴且耗時的掩模板，無掩模光刻機通過計算機輔助設計（CAD...
查看詳細納米光電子設備，如納米激光直寫系統、高分辨率光刻機等，在現代微納制造領域中扮演著至關重要的角色。這些設備能夠實現納米級別的精細加工，廣泛應用于半導體制造、光學元件生產、生物醫學研究以及新材料開發等領域。然而，由于其高度復雜性和精密性，使用過程中難免會遇到各種問題和故障。本文將探討納米光電子設備常見的故障類型及其相應的處理方法。一、常見故障類型光源問題癥狀：激光輸出功率下降、不穩定或失效。原因：可能是激光器老化、冷卻系統故障、電源供應不穩定或光學元件污染。處理方法：首先檢查冷卻...
查看詳細在現代納米技術與微電子制造領域，納米激光光刻系統作為一種高精度的加工工具，正逐漸成為推動科技進步的關鍵力量。它不僅能夠實現亞微米乃至納米級別的精細圖案制作，還在多個高科技領域展現了廣泛的應用潛力。應用領域廣闊納米激光光刻系統主要應用于半導體芯片制造、光學元件加工、生物醫學研究以及新材料開發等領域。在半導體工業中，它是制造集成電路（ICs）的工具之一，能夠精確地在硅片上刻畫出復雜的電路圖案，支持從微米級到納米級的設計需求。對于光學元件而言，該系統可以用來生產高精度透鏡、濾波器等...
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